Дефекты в кристаллах Лекция 5 Дислокации в кристаллах. Дислокации были придуманы для объяснения пластической деформации кристаллов. Скольжение – это трансляция одной части кристалла по отношению к другой без изменения объёма. Трансляция происходит по определенной плоскости (плоскость скольжения) и в определенном кристаллографическом направлении (направление скольжения). до деформации после деформации Оценка критического напряжения для скольжения (Френкель) b τ= τ(max)·sin(2πx/b), а при малых х τ = τ(max)·2πx/b τ= G·x/b – закон Гука, G – модуль сдвига, х/b – деформация. τ(max)·2πx/b= G·x/b, τ(max)= G/ 2π Экспериментальные значения τ(max) в 104 – 105 раз меньше. Дислокации Краевая дислокация - Поляни, Орован, Тейлор – 1934 г. Винтовая дислокация – Бюргерс -1939 г. Дислокация – линейное несовершенство решётки, являющееся границей зоны сдвига. Аналогии: 1) Складка на ковре 2) Движение гусеницы Дислокации краевая винтовая β β EE’ β иг в сд иг в сд SS’ // β смешанная β иг в сд Расположение атомных плоскостей В идеальном кристалле В кристалле с краевой дислокацией В кристалле с винтовой дислокацией Контур Бюргерса Контур Бюргерса – контур, построенный в реальном кристалле путём последовательного обхода дефекта от атома к атому в совершенной области кристалла. В идеальном кристалле контур Бюргерса всегда замкнут. Дислокация – несовершенство кристаллической решётки разрывающее контур Бюргерса. Вектор Бюргерса – вектор, соединяющий конечную и начальную точки контура Бюргерса. Вектор Бюргерса определяет меру искаженности кристаллической решётки, обусловленную присутствием в кристалле дислокации. b b Свойства вектора Бюргерса • 1) Вектор Бюргерса – вектор трансляции кристаллической структуры (решётки Бравэ). • 2) Вектор Бюргерса краевой дислокации перпендикулярен вектору линии дислокации. Вектор Бюргерса винтовой дислокации параллелен вектору линии дислокации. • 3) Вектор Бюргерса любой дислокации можно представить как сумму краевой и винтовой компонент. b bкр = b sinα bвинт = b cosα α L 4) Вектор Бюргерса имеет постоянное значение и не меняется вдоль линии дислокации. Дислокация не может оборваться внутри кристалла, она должна либо замкнуться в петлю, либо выйти на поверхность. Свойства вектора Бюргерса • 5) При разветвлении дислокационной линии величина вектора Бюргерса не меняется. b2 b b b1 b2 b1 b = b1 + b2 Энергия дислокации Энергия дислокации = энергия дальнодействующих упругих искажений + энергия ядра дислокации Eвинтовой Eкраевой Gb 2 R = L⋅ ⋅ ln 4π ro Gb 2 R = L⋅ ⋅ ln 4π (1 −ν ) ro E = α ⋅ Gb 2 , α ≈ 0.5 G - модуль сдвига, b - вектор Бюргерса, ν− коэффициент Пуассона, R – радиус зоны, ro – радиус ядра дислокации ro~ 3b Энергия дислокации • Вклад энергии ядра дислокации в общую энергию близок к 10 %. Таким образом, основной вклад в энергию дислокаций вносит поле дальнодействующих упругих напряжений. • Энергия дислокации длиной в один параметр решётки значительна E ~ 0.5Gb3 ~3 эВ. Дислокация является неравновесным дефектом и не может возникнуть самопроизвольно в результате термических флуктуаций как вакансия. Движение дислокаций Скольжение дислокаций 1 b 2 3 b 2 1 3 b Скольжение дислокаций – процесс периодического ослабления и восстановления связей в ядре дислокации. Плоскость скольжения должна содержать линию дислокации и вектор Бюргерса. Скольжение дислокаций Барьер Пайерлса – Набарро определяет сопротивление кристаллической решётки скольжению. τ ПН 2⋅G d = ⋅ exp(−2 ⋅ π ⋅ ) q q ⋅b q=1 для винтовой дислокации, q=1-ν для краевой дислокации Чем меньше вектор Бюргерса b и больше межплоскостное расстояние d, тем меньше барьер Пайерлса – Набарро. d/b=1 τПН=4 10-3G τПН=1.5 10-4G d/b=1.5 Скольжение дислокаций Плоскость скольжения содержит линию дислокации и вектор Бюргерса. Краевая дислокация имеет единственную плоскость скольжения. L b N=Lxb b Любая плоскость, содержащая линию дислокации, является плоскостью скольжения для винтовой дислокации. L Наблюдаемые системы скольжения • 1) Дислокация должна иметь наименьший вектор Бюргерса т.к. E ~Gb2. Вектор Бюргерса – минимальный вектор трансляции. • 2) Плоскость скольжения должна иметь максимальное значение межплоскостного расстояния - d. Плоскости скольжения – плоскости, имеющие максимальную плотность узлов решётки. Плоскость скольжения – плоскость, содержащая минимальный вектор трансляции и имеющая максимальное межплоскостное расстояние. Система скольжения = плоскость скольжения + направление скольжения Наблюдаемые системы скольжения ГЦК металлы Минимальный вектор трансляции - а/2 [110] Плоскости с максимальной плотностью узлов и максимальным d - {111} В ГЦК решётке 4 различных плоскости {111}, в каждой содержится 3 вектора а/2 [110], поэтому всего 4х3=12 систем скольжения. Наблюдаемые системы скольжения ОЦК металлы Минимальный вектор трансляции - а/2 [111] Плоскости с максимальной плотностью узлов и максимальным d - {110} В ГЦК решётке 6 различных плоскости {110}, в каждой содержится 2 вектора а/2 [111], поэтому всего 6х2=12 систем скольжения. Наблюдаемые системы скольжения CsCl Минимальный вектор трансляции - а [100] Плоскости с максимальной плотностью узлов и - {100}, но эти плоскости состоят из ионов одного знака, скольжение происходит по {110}. максимальным d В ГЦК решётке 6 различных плоскости {110}, в каждой содержится 1 вектор а [001], поэтому всего 6х1=6 систем скольжения. Наблюдаемые системы скольжения NaCl Минимальный вектор трансляции – а/2 [110] Плоскости с максимальной плотностью узлов и - {111}, но эти плоскости состоят из ионов одного знака, скольжение происходит по {110}. максимальным d В ГЦК решётке 6 различных плоскости {110}, в каждой содержится 1 вектор а [110], поэтому всего 6х1=6 систем скольжения. Переползание дислокаций Дислокация – сток вакансий вакансия Переползание дислокации Дислокация – источник вакансий Переползание дислокации вакансия Силы, действующие на дислокацию. 1) Внешние напряжения. F =τ ⋅b L Сила Мотта - Набарро Сила, действующая на дислокацию равна произведению модуля вектора Бюргерса на значение составляющей касательного напряжения в плоскости скольжения в направлении скольжения. Сила всегда перпендикулярна линии дислокации. 2) Силы взаимодействия между дислокациями Параллельные винтовые дислокации Винтовые дислокации взаимодействуют подобно электрическим зарядам одного знака – отталкиваются, противоположных знаков – притягиваются. b1 ⋅ b2 F =G⋅ L 2π r b1 r b2 Силы взаимодействия между дислокациями Параллельные краевые дислокации Краевые дислокации одного знака. сжатие F отталкивание a растяжение r притяжение a Устойчивое положение – дислокационная стенка или малоугловая граница. Образование малоугловых границ – полигонизация. 1 h 2 b tg Θ = < 200 h угол разориентации между областями 1 и 2. Силы взаимодействия между дислокациями Параллельные краевые дислокации, лежащие в одной плоскости. Краевые дислокации одного знака образуют скопление.. F = N ⋅τ ⋅ b L - сила, действующая на вершину скопления Дислокации разных знаков – аннигилируют. Плотность дислокаций ΣL ρ= V [1/см2], длина дислокационных линий в единице объёма. Характерные величины: 1) Бережно выращенный монокристалл высокой чистоты <103 1) Оттоженный монокристалл 104 - 106 2) Оттоженный поликристалл 107 - 108 3) Металл после холодной деформации 1011- 1012 1012 см-2 –максимальная плотность дислокаций Образование дислокаций • При механическом воздействии Источник Франка –Рида Любой закрепленный сегмент дислокации, способный скользить в другой плоскости скольжения может являться источником Франка-Рида. L G ⋅b τ = 2R τ ФР R G ⋅b = L Критическое напряжение для работы источника Франка-Рида Работа источника Франка - Рида 1 R 2 G ⋅b τ = 2R Работа источника Франка - Рида 3 τ ФР 4 G ⋅b = L Работа источника Франка - Рида 5 6 Работа источника Франка - Рида 7 8 Образование дислокаций При росте кристаллов - Наследование дислокаций от затравки - «ошибки роста», например встреча двух островков роста, имеющих различную ориентацию. - Неравномерное распределение примесных атомов - Термические напряжения Методы наблюдения дислокаций Метод Ямки травления Декорирование дислокаций ТЭМ Уширение ренгеновских линий Предел измерения плотности дислокаций, см-2 минимальный максимальный 108 108 107 1010 Ямки травления Ямки травления Ямки травления Ямки травления Декорирование ТЭМ ТЭМ ТЭМ ТЭМ Факторы, влияющие на подвижность дислокаций. Напряжение, необходимое для пластической деформации – движения дислокаций: T = τ ПН + τ Л + τ ПР + τ ДЧ τ ПН τЛ - сопротивление кристаллической решётки, барьер Пайерлса - Набарро - сопротивление дислокаций τ ПР - сопротивление примесных атомов τ ДЧ - сопротивление дисперсных частиц Сопротивление со стороны дислокаций леса 1) Упругое взаимодействие 2) Пересечение дислокаций с образованием стопоров. Дислокационная структура после деформации в нержавеющей стали. ТЭМ, увеличение х 30000. Сопротивление со стороны дислокаций леса Увеличение плотности дислокаций в результате деформации приводит к затруднению движения дислокаций и повышению напряжения. Явление увеличения напряжения в процессе деформации называется наклёпом. τ Л = α ⋅G ⋅b ⋅ ρ α − коэффициент (~ 0.5) G – модуль сдвига b – среднее значение вектора Бюргерса ρ − плотность дислокаций Зависимость напряжения от деформации для монокристалла. I – легкое скольжение; II – стадия упрочнения (наклеп). Сопротивление со стороны примесных атомов 1) Сопротивление адсорбированными примесными атомами. Примесные атмосферы. Отрыв дислокации от примесной атмосферы F/L Зависимость силы торможения от скорости дислокации «Зуб текучести» на кривой деформации. скорость дислокации Сопротивление со стороны примесных атомов Концентрация примеси в примесной атмосфере U с = с0 ⋅ exp(− ) R ⋅T С0 – объёмная концентрация примеси, U – энергия взаимодействия. • Причины образования примесной атмосферы 1) Упругое взаимодействие – атмосфера Котрелла. U ~ 10 – 50 кДж/моль сжатие Rпримеси < R Rпримеси > R растяжение Сопротивление со стороны примесных атомов 2) Кулоновское взаимодействие в ионных кристаллах - атмосфера Дебая-Хюккеля. ступенька на дислокации + - + + - - + - + + + - U= + qпримеси ⋅ qступеньки ε ⋅r 3) Упорядочение примеси в поле дислокации – атмосфера Снука. 4) Химическое взаимодействие расщепленных дислокаций с атомами примеси – атмосфера Судзуки. Сопротивление дисперсных частиц перерезание частиц τ Перерезание частиц f = const механизм Орована Λ Сопротивление дисперсных частиц Механизм Орована G ⋅b τ ДЧ = , Λ 4 π Λ = r⋅3 ⋅ 3 f f – объёмная доля r – радиус частицы Λ − расстояние между частицами Композиционные материалы Виды композиционных материалов Матрица: металлы и сплавы Дисперсные частицы: карбиды, нитриды, оксиды. Нити: углерод, карбид кремния, стекло Влияние температуры на пластическую деформацию Различные механизмы пластической деформации 1 L Lo Скольжение дислокаций 2 Дислокационная ползучесть 3 Диффузионная ползучесть Карта механизмов деформации в зависимости от температуры Частичные дислокации Вектор Бюргерса частичной дислокации меньше минимального вектора трансляции решётки Бравэ. 1 [101] 2 1 [112] 6 1 [211] 6 1 1 1 [101] = [211] + [112] 2 6 6 Движение частичной дислокации приводит к нарушению чередования слоёв в структуре кристалла и образованию дефекта упаковки. Частичные дислокации Энергетический критерий расщепления полной дислокации b1 = b2 + b3 , b12 > b2 2 + b32 b12 = b2 2 + b32 + γ ДУ 1 1 1 [101] = [211] + [112], 2 6 6 a2 a2 a2 > + 2 6 6 Значение энергии дефекта упаковки в некоторых металлах металл Mg γДУ,мДж/м2 310 Zn Al Cu Au Ag 325 135 41 30 16 Частичные дислокации Примеры расщепленных дислокаций Структура дефекта упаковки Элемент ГПУ структуры A C B A C B A C B A ГЦК B A C B C B A C B A Структура дефекта упаковки Элемент ГЦК структуры A C A C B A B A B A B A B A B A B A B A ГПУ Двойникование Плоскость скольжения Деформация скольжением Плоскость двойникования Деформация двойникованием Механическое двойникование – это сдвиговая деформация в результате которой определенная часть кристалла меняет ориентацию и становиться зеркально симметричной исходной части кристалла. Двойникование h α Плоскость двойникования S Двойник γ= S = tgα h Направление двойникования Система двойникования = плоскость двойникования + направление двойникования Двойники: 1) Двойники роста – образуются при зарождении и росте кристалла 2) Деформационные Механизм роста двойника B C A B C B A C B A A C B A C B A C B A ГЦК Прохождение частичной дислокации в каждой плотноупакованной плоскости (111) приводит к образованию двойника. 1 < 112 > a/ 6 1 γ = tgα = 6 = = d111 a/ 3 2 α Механизм роста двойника h = N ⋅d d tg Θ = S Двойниковые ламели в сплаве Bi-5%Sb (x180) Полюсный механизм двойникования Двойниковые ламели в Nb (x180) Пластическая деформация Рост кристаллов Фазовые переходы дислокации ускоренный путь диффузии зарождение новой фазы Полигонизация и рекристаллизация