Загрузил MiRroR jr

Бунёд реферат Бондаренко

реклама
Министерство науки и высшего образования РФ
Федеральное государственное автономное образовательное учреждение
высшего образования
СЕВЕРО-КАВКАЗСКИЙ ФЕДЕРАЛЬНЫЙ УНИВЕРСИТЕТ
Реферат по теме
«Ионно-плазменное напыление»
Выполнил студент:
2 курса магистратуры,
группы ЭНЭ-м-о-21-1
Махмадхонзода Бунёд Махмадхон
Ставрополь, 2023 г.
1
Содержание
Введение ................................................................................................................... 3
Ионно-плазменное напыление (ИПН) .................................................................. 4
Схема процесса ИПН .............................................................................................. 6
Расходные материалы ионно-плазменного напыления....................................... 9
Оборудование ИПН............................................................................................... 11
Технология ИПН ................................................................................................... 18
Заключение ............................................................................................................ 22
Список использованной литературы ................................................................... 23
2
Введение
В настоящее время исследованиям в области напыления, а значит, в
частности, ионно-плазменного, т.к. именно оно, наравне с магнетронным,
является наиболее актуальным, уделяется значительный интерес.
Напыление
-
сложный
процесс,
который
представляет
собой
равномерное осаждение по металлу или иной поверхности изделия
тончайшего
слоя
заданного
вещества
с
целью
придания
изделию
дополнительной прочности, электропроводности, износоустойчивости или
красивого внешнего вида. Существуют такие виды напыления, как
электродуговое, лазерное, индукционное, электронно-лучевое, и др.
Целью данного реферата является исследование ионно-плазменного
напыления. Данная работа ставит перед собой такие задачи, как рассмотрение
понятия "ионно-плазменное напыление", характеристика процесса напыления,
расходные материалы и оборудование, а также применение разработанных
покрытий.
3
Ионно-плазменное напыление (ИПН)
Одним из методов получения покрытий многомикронной толщины
является вакуумное ионно-плазменное напыление. Способ вакуумного
напыления основан на физических процессах испарения или распыления
материалов в вакууме с последующей конденсацией продуктов на требуемой
поверхности.
Данный метод обладает рядом преимуществ:
· возможность получения покрытий при температуре подложки 80 - 100
С°;
· простая технология получение интерметаллидов, а также и нитридов и
карбидов стехиометрического состава;
· толщина покрытий может варьироваться от 0,01 до 20 мкм;
· равномерное нанесение на детали сложной геометрической формы;
· покрытие не нуждается в финишной обработке.
Покрытия, полученные методом ионно-плазменного напыления, могут
быть использованы для самых различных целей:
· для снижения различных видов износа, снижения или повышения
коэффициента трения, повышения противозадирных свойств и исключения
схватывания, в том числе при эксплуатации в условиях повышенных
температур, вакуума, специальных сред и т.д.;
· для повышения коррозионной стойкости деталей в различных
специальных средах, в том числе и при повышенных температурах;
· для обеспечения заданных свойств по отражению или поглощению
электромагнитных волн мм, см- и других диапазонов;
·
для
обеспечения
заданных
электротехнических
свойств
на
непроводящих материалах;
· для обеспечения заданных поглощательных, излучательных или
отражательных свойств излучений оптического и инфракрасного диапазонов;
· для защиты материалов от воздействия ультрафиолетового и другого
проникающего излучения;
4
· для замены покрытий, получаемых гальваническим и химическим
осаждением, на покрытия из тех же материалов, но более высокого качества с
использованием экологически чистых производств;
· для придания поверхности нужных декоративных свойств различной
цветовой гаммы с обеспечением высокой прочности сцепления, стойкости к
износу и коррозии;
·
для
придания
защитно-декоративных
свойств
медицинским
инструментам, коронкам, протезам и т.д. с имитацией цвета драгоценных
металлов при существенном повышении медико-биологических свойств этих
медицинских изделий;
· для получения покрытий различной цветовой гаммы и нужным
уровнем светоотражения на стеклах;
· для получения покрытий других специальных назначений.
Выбор конкретного вида покрытия, его толщины, состава и технологии
нанесения зависит от вида и геометрии изделия, условий его эксплуатации,
вида материала изделия и его массы и т.д. и отрабатывается в результате
многовариантных исследований.
5
Схема процесса ИПН
Генерация плазменного потока в вакууме.
При поджиге вакуумной дуги на торцевой поверхности катода
возникают сначала быстро перемещающиеся катодные пятна первого типа,
которые через время порядка 1 - 0,5 мс переходят в медленно
перемещающиеся катодные пятна второго типа. Из катодных пятен второго
типа эродирует материал катода, состоящий из ионной, паровой и
микрокапельной фазы. Продукты эрозии разлетаются практически изотропно
над поверхностью катода, а из-за перемещения катодного пятна и наличия до
10 катодных пятен одновременно на поверхности эти продукты эрозии
образуют плазменную струю, уходящую от поверхности катода. Система
магнитных и электрических полей дополнительно перерабатывает продукты
эрозии, увеличивая долю ионной фазы и кинетическую энергию ионов, а
также коллимирует плазменную струю. На выходе генератора состав
плазменной струи оценивается следующими значениями: доля ионной фазы 30-95%, паровой фазы - 5-65%, микрокапельной фазы - 20-0,5%. Кинетическая
энергия ионов достигает сотен электрон-вольт.
Поскольку такие параметры
как доля
ионной фазы, средняя
кинетическая энергия на ион, средняя степень ионизации ионов являются
основными физическими параметрами, определяющими свойства покрытий и
технологические режимы их получения, а также из-за того, что даже в
одинаковых по схеме ускорителях эти параметры могут существенно
изменяться, необходимо при запуске новых установок в работу проводить
определение этих параметров.
Закономерности
осаждения
частиц
напыляемого
материала
на
генератора
в
подложку.
Плазменная
струя,
свободномолекулярном
выйдя
со
режиме,
среза
проходит
сопла
вакуумную
камеру,
взаимодействует с поверхностями конденсации и образует покрытие. На
деталь через технологические приспособления подается отрицательное
6
напряжение, получившее название опорного напряжения в режиме напыления
и высокого напряжения в режиме ионной очистки поверхности. Ионы плазмы
под действием напряжения смещения ускоряются в дебаевском слое около
поверхности, обычно нейтрализуются и, ударяясь о поверхность, передают
свою кинетическую энергию поверхности около точки соударения. В
зависимости от абсолютной величины кинетической энергии ионов на
поверхности протекают различные процессы. При энергиях меньше 10 эВ эти
процессы имеют в основном термическую природу, при энергиях больше 10
эВ начинают сказываться процессы с нетермической природой, при энергиях
выше пороговой энергии распыления начинаются процессы ионного
травления поверхности, при энергиях, превышающих критическую энергию
внедрения, ионы начинают внедряться в кристаллическую решетку, при
энергиях выше энергии смещения атомов кристаллической решетки в твердом
теле возникают каскады смещения, характерные для ионной имплантации.
При этом активно протекают процессы: образования активных центров роста
покрытия, выбивание с поверхности атомов, не попавших в минимумы
потенциальной энергии, ускоренная поверхностная диффузия, нетермическая
диссоциация адсорбированных соединений, разрывы полярных цепочек,
нагрев поверхности и т.д.
Для получения соединений используют реактивные газы. Так при
использовании титанового катода и газового азота можно получать нитрид
титана. Причем, при увеличении опорного напряжения количество неметалла
(азота), вступающего в реакцию нитридообразования, возрастает, и при
некотором критическом значении образуется нитрид стехиометрического
состава.
Образование
такого
соединения
происходит
в
результате
диссоциативной хемосорбции азота. Качество покрытия определяется
качеством процесса ионной очистки детали и зависит от технологических
параметров тока дуги, потенциала смещения, давления газа, температуры
детали и во многом зависит от конструкции генератора плазмы, особенностей
7
детали и технологической оснастки, а также от химической чистоты
используемых материалов.
8
Расходные материалы ионно-плазменного напыления
Вакуумные ионно-плазменные покрытия могут быть получены из
любых токопроводящих материалов, допускающих их разогрев вакуумной
дугой и устойчивых к интенсивной сублимации в вакууме, сплавов и твердых
растворов этих материалов, их соединений в виде интерметаллидов, нитридов,
карбидов, окислов и т.д.
Подложкой могут служить детали из металлов, сплавов, диэлектриков,
полимеров и композиционных материалов, допускающих технологический
разогрев в вакууме до определенных температур. Температура зависит от вида
покрытия и свойств материала детали и определяет свойства изделий с
покрытием. Ее величина устанавливается в конкретном процессе отработки
технологии и зависит от вида применяемого оборудования. Опыт показывает,
что высококачественные покрытия из чистых металлов могут быть получены
при температурах не менее 80-100 °С, покрытия из нитридов - при
температурах не менее 150-300 °С, а карбидов - при температурах 250-400 °С.
Исходными технологическими материалами для вакуумного ионноплазменного напыления являются катоды из напыляемых металлов. Как
правило, это металлы высокой чистоты. Например, титан (ВТ-1-00), медь (М
0), хром (ВХ-1), алюминий (А 99) и т.д.
Катод
Булат - 6К
Катод для установки ННВ-6.6-И 1
9
для
установки
Для получения соединения напыляемых металлов применяют газы
особой чистоты. Наиболее часто используются такие газы как азот, кислород,
водород, углекислый газ, ацетилен. Для создания инертной среды в вакуумной
камере применяют аргон или гелий.
10
Оборудование ИПН
Установка для вакуумного ионно-плазменного напыления.
С начала 80-х годов, в СССР был налажен серийный выпуск
оборудования на базе схемы "Пуск" и на базе схемы "Булат" - установки типа
"Булат-3Т", "Юнион", ВУ-1 и установки типа ННВ. Схема "Булат-3" также
используется в установке фирмы Multi-Arc Vacuum Systems Inc, купившей в
СССР лицензию на производство такого оборудования. На сегодняшний день
широкое распространение на территории России получила установка ННВ-6.6
для нанесения ионно-плазменным методом защитных, износостойких и
декоративных покрытий из различных материалов (Ti, Zr, Cr, Mn, Al, Mo, W,
их оксиды, нитриды и карбиды, сплавы и композиции) на детали и
инструмент, в том числе режущий. Особенности конструкции рабочей камеры
установки
позволяют
получать
высококачественные
многослойные покрытия при пониженных температурах.
11
однородные
и
1.
корпус;
2.
электрическая
часть
1. дверца;
2. электрод токоподводящий (электродуговой испаритель);
3. система водоохлаждения;
4. вакуумная система;
5. механизм вращения;
6. основание
Корпус имеет вид вертикального цилиндрического сосуда с боковым
проемом, который закрывает дверца. Он выполнен с двойными стенками,
образующими полость водоохлаждения (или подогрева при откачке камеры).
На боковых стенках корпуса установлены два электродуговых испарителя.
Корпус с дверцей образует вакуумную камеру.
12
Дверца
имеет
двойные
стенки,
которые
образуют
полость
водоохлаждения. На дверце установлен третий электродуговой испаритель,
который может быть размещен и на верхней плоскости корпуса. Система
водоохлаждения состоит из водораспределительной панели и трубопроводов.
В панели предусмотрена воронка для визуального контроля протока воды, а
также датчики сигнализаторов уровня. Расход воды регулируют вентили,
установленные на коллекторе.
Вакуумная
система
обеспечивает
создание
в
рабочей
камере
необходимого рабочего давления. Регулирование остаточного давления
выполняется с помощью автоматического регулятора напуска рабочего газа.
Система состоит из клапана с электромагнитным приводом, напускного
регулируемого клапана (автоматического натекателя) и электронного блока
управления.
Механизм вращения имеет электромеханический привод, состоящий из
электродвигателя постоянного тока и редуктора, соединенных клиноременной
передачей. Электродвигатель позволяет изменять число оборотов и
направление вращения.
Основание предназначено для монтажа на нем камеры, вакуумной
системы, системы водоохлаждения и подогрева. В тумбе основания
расположен механизм вращения и блоки поджига дуги. Электродвигатель
установлен на плите, которая крепится к тумбе основания.
Вакуумная система и панель водоохлаждения расположены на площадке
основания. В площадке под съемным листом размещены провода цепей
управления и силовые цепи.
Электрическая часть служит для электроснабжения установки и
управления технологическим процессом. Электроснабжение производится от
трехфазной сети напряжением 380В, цепи управления питаются напряжением
220В и частотой 50 Гц.
Высоковольтный источник питания, включающий в себя тиристорный
преобразователь
напряжения,
высоковольтный
13
трансформатор
и
выпрямитель, обеспечивает регулирование напряжения в пределах от 100 до
1500 В. Источник опорного напряжения, включающий в себя тиристорный
преобразователь (общий с высоковольтным источником), трансформатор и
выпрямитель, обеспечивает регулирование напряжения от 20 до 280 В.
Генератор металлической плазмы
Для получения плазмы металлов в данной установке используются
электродуговые
испарители
с
холодным
катодом
с
последующей
переработкой плазменной струи в скрещенных электрическом и магнитном
полях или электродуговые ускорители (совмещающие эти два процесса).
Типовые схемы генераторов металлической плазмы приведены на рисунках,
где обозначено: 1 - катод; 2 - система защиты от сброса дуги на боковую
поверхность; 3 - соленоид; 4 - фланец вакуумной камеры; 5 - электрод
поджига; 6 - анод; 7 - дополнительный анод; 8 - канал подачи реакционного
газа.
В
генераторах
рис.1
и
рис.3
функцию
анода
выполняют
водоохлаждаемые цилиндрические стенки узла его крепления. В этих
генераторах реализована схема электродугового испарения. В генераторе
рис.2 реализована схема электродугового ускорителя. Некоторые технические
характеристики серийного оборудования приведены в таблице. В связи с
отсутствием удовлетворительных теорий вакуумной дуги и плазмодинамики
плазменных потоков в скрещенных электрическом и магнитном полях
сложной
геометрии
с
учетом
эффектов
взаимодействия
с
электропроводящими поверхностями, все схемы генераторов разработаны
экспериментально.
Их
оптимизация
проводится
по
относительному
максимуму ионного тока металла при относительном минимуме потока
паровой фазы металла и абсолютном минимуме микрокапельной фазы.
14
Рис.2 Торцево
Рис.3 Генерат
й холловский
ор
ускоритель с
металлическо
автономным
й
управлением
установки
коллимацией
ННВ 6.6-И 1
плазмы
Рис.1 Схема простейшего электродугового
испарителя типа "Булат-1".
Технические характеристики серийных установок
Наименова
ние
показателя
НН
Була
Булат-
В
т-3Т
9
6.6И1
ЮНИОН
,
УРМЗ
279-048
15
Пуск
ВУ-
83
2Б
ННИ
39-5-И
1
Була
т-6К
1.
Габариты
вакуумной
камеры, мм
5
6
00x5
00x65
00
0
3
4
6
00x
650
0
24
3
2
9
5
0x530x55
60x25
40x550
0
0
x550
2
2
2
4
3
до 40
30-60
10-20
до 40
40
60-90
20-30
75
20-60
90
00x500
00x5
00
2.
Число
генераторов
3
плазмы
3.
Скорость
до
роста
10-
покрытия,
20
до 40
до
40
мкм/с
4.
Время
типового
120-
технологич
150
60-90
6090
еского
цикла, мин
280
5.
0-
(пл
250
авн
Диапазон
(плав
30-
о)
регулирова
но)
1700
100
ния
700-
(плавн
-
напряжения
1200
о)
170
на детали, В
(ступ
0
.)
(пл
0-
1-180
(плавно)
1000
01200
(плав
но)
0-200
0-280
(плавн
(плавн
о) 700-
о) 200-
1000
1700
(ступ.)
(ступ.)
380
(пла
вно)
1001700
(ступ
.)
авн
о)
16
6.
Диапазон
регулирова
ния средней
энергии
до
до
1200
1700
до
170
0
до
180-
1000
до
до
до
1200
1000
1700
Д
до
1700
однократны
х ионов, эВ
7.
3
2
Габариты
,17x1
оборудован
,95x2
ия, м
,16
1
2 ,9x
,2x2,1
3,6
x2,2
x2,
2,
2x2,0x2,0
,87x0,
69x1,
85
07
1
3
2
,4x1,5x
,9x3,6x
,4x1,
1,6
2,07
7x2,1
Практический опыт работы на серийном и лабораторном оборудовании,
а также комплексные исследования позволили не только получить важные
прикладные результаты, но и выявили недостатки и направления, по которым
возможно дальнейшее совершенствование оборудования. К недостаткам
существующего отечественного серийного оборудования можно отнести
следующее:
1. Наличие в плазменном потоке микрокапельной фазы.
2. Возникновение микродуговых привязок на обрабатываемом изделии.
3. Недостаточная степень ионизации плазменного потока и большая
дисперсия распределения ионов по энергиям.
4. Недостаточно высокая производительность процесса напыления.
5. Недостаточная скорость и глубина откачки вакуума.
6. Трудности в получении равномерного по толщине покрытия на
деталях сложной формы.
7. Сложность получения многокомпонентных покрытий, так как при
напылении из различных катодов возникает микрополосчатость покрытия.
8. Недостаточная степень автоматизации и диагностики процесса.
17
Технология ИПН
Подготовка подложки под напыление
Все
подготовительные операции
проводятся
с целью очистки
поверхностей детали от загрязнений органического и неорганического
характера. От полноты проведения очистки зависит прочность сцепления
покрытия с деталью и качество самого покрытия.
Покрываемые детали должны иметь шероховатость поверхности не
выше Ra=1,25 мкм, а по резьбе не выше Ra=2,5 мкм. Наиболее эффективная
подготовка поверхности по шероховатости заключается в анодно-плазменной
полировке и виброгалтовке, хотя допускаются другие технологические
операции (шлифовка, механическая полировка и т.д.) с последующим
удалением паст и частиц абразива с поверхностного слоя промывкой в бензине
или Нефрасе, а затем в этиловом спирте. Все операции необходимо проводить
в ультразвуковой ванне.
Затем
проводится
визуальный
контроль
качества
подготовки
поверхности с помощью лупы или бинокулярного микроскопа. На
поверхностях деталей не должно быть следов и пятен от влаги и других
загрязнений, а также ворсинок из ткани, так как они инициируют
микродуговые разряды в процессе ионной очистки.
В конце проводится сборка деталей на приспособлении для нанесения
покрытий. Вместе с деталями обычно загружается образец-свидетель для
замера твердости и толщины. В качестве образца-свидетеля могут быть
использованы детали, забракованные по геометрии. При этом необходимо
отметить, что время нахождения деталей в чистой закрытой стеклянной или
металлической таре после отмывки не должно быть более четырех часов. При
отклонении по допустимому времени хранения деталей повторить промывку
в спирте.
Режим напыления.
Перед напылением в первую очередь, необходимо очистить поверхность
детали от различных имеющихся загрязнений. В качестве предварительной
18
операции для очистки металлических деталей больших площадей обычно
используют очистку газовым ионным травлением в атмосфере аргона.
Второй операцией является очистка бомбардировкой ионами металла.
Полнота очистки поверхности зависит от степени разряжения, величины
высокого напряжения, плотности ионного тока металла, общей площади
деталей и их конфигурации. Очистку обычно проводят импульсно, включая и
выключая ток дуги. Время работы испарителя и паузы между ними
подбираются экспериментально для обеспечения равномерности прогрева
детали без ее перегрева.
Затем осуществляется непосредственно напыление или чистого металла,
или соединения (карбида, нитрида, оксида и т.д.)
Конечной
операцией
напыления
является
охлаждение
деталей
(выдержка в вакуумной камере определенное время).
Обработка покрытия после напыления.
Вакуумное
ионно-плазменное
напыление
является
финишной
операцией и ни в каких действиях по доводке покрытие не нуждается. После
напыления процесс завершен, и деталь можно сразу пускать в эксплуатацию.
Состав и область применения разработанных покрытий
Состав покрытия
Назначение покрытия
Применяются для замены тех же
Хром, никель, медь
покрытий,
наносимых
гальваническими
и
химическими
методами.
Алюминиевые
А-99
покрытия,
наносимые вакуумным плазменным
методом для защиты от коррозии, в
том
19
числе
пружин,
и
для
экранирования корпусов приборов и
двигателей,
изготовленных
из
полимерных материалов.
Нитрид
(карбид)
титана,
нитрид хрома, нитрид циркония,
нитрид (карбид) титана-хрома,
нитрид (карбид) циркония-хрома,
нитрид (карбид) титана-циркония
Нитрид
титана,
нитрид
титана - нитрид хрома-титана,
хром, нитрид титана - нитрид
титана-молибдена, молибден
Износостойкие
покрытия
обрабатывающего инструмента при
обработке
сталей,
сплавов
и
Износостойкое
покрытие
для
полимеров.
узлов трения деталей машин, в том
числе изготовленных из титановых
сплавов и работающих без смазок в
условиях вакуума.
Антиадгезионные
Хром, нитрид титана
для
предохраняющие
покрытия,
детали
от
схватывания, в том числе в расплавах
припоев.
Покрытие
полимерных
Титан - никель - алюминий
материалов
на
изделиях
из
композиционных
радиотехнического
назначения с высоким коэффициентом
отражения.
Покрытие на деталях корпусов
Медь-олово
двигателей, приборов и штепсельных
разъемов,
20
изготовленных
из
полимерных
материалов
и
подвергаемых бескислотной пайке при
сборке.
Уплотнение
Алмазоподобный углерод
графита.
пиролитического
Износостойкое
покрытие
деталей пар трения.
Покрытие
волокнах,
Титан
на
углеродных
предназначенных
для
создания углеродных композиционных
материалов с полимерной связующей.
Нитрид
титана
Покрытие
-
для
карбонитрид титана - карбид
поверхностей
титана
насадок буровых долот.
Никель - хром - кобальт алюминий
-
иттрий,
циркония - окись иттрия
окись
внутренних
гидромониторных
Термобарьерное покрытие для
деталей горячего тракта ГТД, в том
числе для турбинных лопаток первой
ступени.
21
Заключение
Метод ионно-плазменного напыления - это ответственный процесс, от
полноты и качества проведения которого, зависит прочность сцепления
покрытия, что в дальнейшем очень важно. Если касаться установок,
предназначенных для процесса напыления, то они довольно сложны, но
естественно оправдывают свою сложность, например тем, что позволяют
получать высококачественные однородные и многослойные покрытия при
пониженных температурах.
Ионно-плазменное
напыление
является
напылением
защитного
характера. Часто наносится на внутренние поверхности трубопроводов,
применяется в современной микроэлектронике, а так же применяя методику
ионно-плазменного напыления можно создавать также противоэрозионные
покрытия, ну а для широкого потребления - декоративные, на материалах из
керамики, стекла или металлов. напыление ионно-плазменный вакуумный
Метод напыления, рассматриваемый в данном реферате, имеет спектр
значительных преимуществ. Ознакомившись с ними, можно сделать вывод,
что ионно-плазменное напыление является перспективным, качественным, и
очень эффективным методом, что объясняет его актуальность в наше время.
22
Список использованной литературы
1. Береснев В.М., Погребняк А.Д., Азаренков Н.А., Фареник В.И.,
Кирик Г.В. Нанокристаллические и нанокомпозитные покрытия,
структура, свойства // ФИП. 2007. Т. 5, №1-2. С. 4-27.
2. Газотермическое напыление композиционных порошков / А.Я.
Кулик, Ю.С. Борисов, А.С. Мнухин, М.Д. Никитин. - Л.:
Машиностроение, 1985. - 199 с.
3.
Иевлев В.М. Компактные пленочные наноструктуры // Алмазные
пленки и пленки родственных материалов: тр. Харьк. науч. ассамблеи
ISTFE-15. - Харьков, 2003. - С. 82.
4. Кудинов В.В. Плазменные покрытия. - М.: Наука, 1977. - 184 с.
5. Левашов Е.А., Штанский Д.В. Многофункциональные
наноструктурные пленки // Успехи химии. - 2007. - Т. 76, №5. - С. 501509.
6. Мовчан Б.А., Демчишин А.В. Исследование структуры и свойств
толстых вакуумных конденсатов никеля, титана, вольфрама, окиси
алюминия и двуокиси циркония // ФММ. 1969. Т. 28, №4. С. 653-660.
7. Панчук Д.А. Высокомолекулярные соединения / О взаимодействии
структуры и деформации прочностных свойств металлических покрытий,
нанесённых на полимер методом ионно-плазменного напыления.
8. Прохоров А.М. Большая Советская Энциклопедия – М.
9. Тарасенко Ю.П. Оптимизация технологии нанесения ионноплазменных покрытий нитрида титана на малогабаритные тонкостенные
детали.
10. Физика тонких пленок / под ред. Г. Хасса, Р.Э. Туна; пер. с англ. под
ред. М.И. Елинсона, В.Б. Сандомирского. - М.: Мир, 1967. - Т. II. - 396 с.
11. Хасуй А. Техника напыления. - М.,: Машиностроение, 1975. - 288 с.
12. Хасуй А., Моричаки О. Наплавка и напыление. - М.:
Машиностроение, 1985. - 240 с.
23
Скачать